2025年3月26日，全球半导体行业年度盛会SEMICON China将在上海新国际博览中心拉开帷幕。据悉，作为中国半导体薄膜沉积设备领域的领军企业，拓荆科技（688072）将在展会首日（3月26日）上午11:00于E6馆6413展位举办“拓芯章·见未来”新品发布会，重磅亮相多款覆盖先进制程节点的半导体核心设备。

成立于2010年的拓荆科技，长期致力于前道薄膜设备领域的研发与产业化，经过多年深耕成功打破该领域长期被国际巨头垄断的局面，公司自主研发的离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备等系列的应用覆盖面及量产规模不断提升。近五年拓展了3DIC和先进封装产品，晶圆混合键合(W2W Hybrid Bonding)设备。2024年反应腔出货量超过1000个，进入了70多条产线。此次发布会既是技术成果的集中展示，也是对国产半导体设备产业链协同创新的深度回应。

从追赶、并行再到今天的超越，拓荆科技的成长轨迹印证着中国半导体装备产业的蓬勃发展。3月26日的发布会不仅是一场产品亮相，更是为中国芯片制造产业化升级谱写新的篇章。让我们期待拓荆科技在发布会中会有哪些先进设备的精彩亮相！