本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合
Fouquet指出，由于对中国禁运EUV光刻机，导致中国芯片制造技术仍落后西方10-15年。
荷兰芯片工具制造巨头ASML首席执行官Christophe Fouquet表示，尽管中芯国际和华为近年来在半导体领域取得的进步相当可观，但两家公司比英特尔、台积电和三星等行业巨头落后10到15年。众所周知，即使拥有一流的 DUV 设备，中国晶圆厂 SMIC 也无法以经济高效的方式与 TSMC 的工艺技术相媲美。这是因为中国公司无法获得领先的 EUV 光刻设备。
“通过禁止出口 EUV，中国将落后于西方 10 到 15 年，”Christophe Fouquet 在接受 NRC 采访时说。“这真的有效果。”
根据 Wassenaar 协议，ASML 从未向中国运送其 EUV 设备。然而，ASML 不断推出先进的 DUV 光刻工具，例如 Twinscan NXT：2000i，这些工具能够生产 5nm 和 7nm 级工艺技术的芯片。这无疑帮助中国高科技巨头经受住了美国政府的制裁。
在了解到 EUV 设备不会进入中国后，中国自己探索了极紫外光刻技术，旨在构建自己的光刻芯片制造和生态系统，这最多需要 10 到 15 年的时间。作为参考，ASML 及其合作伙伴从基础工作到完成商用机器再到构建 EUV 生态系统，花了 20 多年的时间。1990 年代早期/中期开发的许多技术都是公开的，中国公司不必从头开始开发所有内容。然而，当中国半导体行业开发低数值孔径 EUV 工具时，西方芯片行业将拥有高数值孔径 EUV 光刻甚至 Hyper-NA EUV 设备。
然而，主要担心的不是中国公司可能会在大约 15 年后开发自己的 EUV 光刻设备，而是他们可能会在未来几年内复制 ASML 的主流 DUV 设备（例如 Twinscan NXT：2000i）。
美国政府正在向 ASML 施压，要求其停止在中国维护和维修其先进的 DUV 系统，这将使其与针对中国半导体行业的现有制裁保持一致。然而，荷兰政府迄今尚未同意这一要求。ASML 旨在保留对其在中国机器的控制权，以防止敏感信息泄露的风险，如果中国公司接管维护以保持其芯片工厂的运营，可能会发生这种情况。
目前，中国公司是 ASML 的主要客户之一，该公司通过向中芯国际、华虹和长江存储销售 DUV 光刻工具赚取数十亿美元。如果中国光刻设备制造商建造自己的 DUV 光刻系统（或只是复制 ASML 开发的系统）会发生什么，目前尚不清楚。一方面，他们可以减少从 ASML 的购买，但另一方面，他们可以开始在中国以外的地方销售这些工具，基本上与 ASML 竞争。虽然他们不太可能在短期内制造出类似 Twinscan NXT：2000i 的机器，但复制不那么高级的东西可能会容易得多。
Fouquet的此次发言，是他自2024年4月担任CEO以来首次公开谈论中美半导体的发展差距。他强调，世界市场迫切需要中国制造的成熟芯片，以填补尤其是欧洲市场的供需缺口，然而在光刻机领域，中国仍无法自主生产先进设备。
ASML在全球半导体供应链中扮演着不可或缺的角色，几乎90%的芯片生产都是依赖该公司的光刻系统。DUV光刻机可以满足7nm及以上制程的芯片制造，然而EUV光刻机的先进性则使其成为了5nm及以下制程的核心设备，并且ASML是全球唯一的EUV设备供应商。
今年，ASML的High NA EUV光刻机成为设备新晋“顶流”。其数值孔径（NA）从之前标准 EUV 光刻机的 0.33 提升到了 0.55 ，镜头的分辨率从之前的13 nm提升到了 8 nm，能够实现2nm以下先进制程大规模量产。英特尔、台积电、三星哪怕豪侈巨资也要拿下。
值得注意的是，尽管面临这些挑战，中国的半导体产业依然在快速壮大。今年前十个月，中国的半导体出口额已突破9311.7亿元，比去年同期增长了21.4%。中方外交部也表态反对美国的出口管制政策，强调这种行为损害了国际贸易秩序。
整体来看，科技行业的竞争尤为激烈，ASML面临压力之际，也在为全球市场的稳定不遗余力。正如Fouquet所言，巨头们之间的竞争不仅关乎企业的生死，也为全球科技的未来发展带来了重要影响。
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