近日，Rapidus宣布其订购的首台ASML EUV光刻机已在位于日本北海道北部城市千岁的工厂交付并开始安装。这一举措标志着Rapidus成为首家接收EUV光刻设备的日本半导体公司，也在全球芯片产业中掀起了波澜。
Rapidus是由丰田汽车、索尼、日本电信电话（NTT）、日本电气（NEC）、日本电装、软银、铠侠和三菱日联银行等八家日本企业于2022年合资成立的，旨在振兴日本先进芯片的生产能力，并降低对进口芯片的依赖。该公司在成立后不久即宣布与比利时微电子研究中心（IMEC）签署技术合作备忘录，并与IBM建立了战略合作伙伴关系，共同开发2纳米节点技术。Rapidus计划在2025年春季完成2nm芯片原型开发，并在2027年实现量产。
EUV光刻机作为半导体制造中的核心设备，其技术难度和制造成本都非常高。与传统的光刻技术相比，EUV光刻技术能够实现更高的分辨率和更精细的图案制作，从而满足先进制程对于芯片尺寸和性能的要求。这对于提升半导体产品的性能和可靠性至关重要，也是Rapidus在半导体代工领域保持竞争力的关键所在。Rapidus购入的这台ASML EUV光刻机虽然属于较早期的0.33 NA型号，而非目前全球总量不足10台的0.55 NA（High NA）款，但依然具备强大的制造能力，能够满足Rapidus首代量产工艺2nm的制造需求。
ASML是目前全球唯一的EUV光刻机供应商，其EUV光刻机技术最早由英特尔提出，并由美国组建的技术联盟EUV LLC攻克了光源、抗蚀剂、防护膜上的三大难题。之后，ASML牵头联合了多所大学、研究所和技术公司，推进EUV光刻机的产出。Rapidus此次引入的EUV光刻机是ASML TWINSCAN NXE:3800E型号，与0.55 NA EXE平台共享部分组件，晶圆吞吐量较前款NXE:3600D提升37.5%。
为了迎接这台光刻机的到来，新千岁机场也进行了精心的准备。由于EUV光刻机对精度要求极高且不耐振动，机场方面对路面进行了重新铺设，以确保光刻机在运输过程中的安全和稳定。此外，ASML还在千岁市建设了客户服务中心，以支持该系统的接收和后续维护工作。Rapidus对于这台EUV光刻机的引入充满期待，计划于2025年4月在位于千岁的IIM-1工厂启动先进制程原型线，该产线将拥有包括EUV光刻机在内的共计200余台设备，为Rapidus在半导体代工领域提供强大的技术支持和生产能力。