近日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”）收到北京市高级人民法院的终审判决，判决驳回上诉人上海至纯洁净系统科技股份有限公司（以下简称“至纯科技”）的上诉请求，维持一审判决，认定国家知识产权局所作出的关于第26732059号“至微科技ULTRON WET SOLUTIONS”商标无效宣告请求裁定适用法律正确，作出程序合法。2023年9月20日，经国家知识产权局依法审查，裁定争议商标在化学工业用电动机械、电子工业设备、电解水制氢氧设备商品上予以无效宣告，在其余商品上予以维持。至此，盛美上海与至纯科技之间就“至微科技ULTRON WET SOLUTIONS”商标为期近两年的商标拉锯战终于落幕。
盛美上海成立于2005年，是国内知名的集成电路清洗设备和电镀设备的龙头企业，也是国内少数已发展成为具有一定国际竞争力的半导体专用设备提供商，产品得到众多国内外主流半导体厂商的认可，并取得良好的市场口碑。自2007年起，盛美上海先后获得了各类市场主体的认可和表彰，连续多年被评为“中国半导体设备五强企业”，是工信部“专精特新”小巨人企业，荣获“2022-2023年度中国半导体市场最佳产品”、“2022-2023年度中国半导体市场创新企业”，荣登“TBB上海制造业品牌价值榜/SFEO上海企业品牌成长榜”、 “2022年度上海集成电路设备企业销售收入第六”、“2023电子信息影响力品牌榜”等荣誉。盛美上海集研发、设计、制造、销售于一体，主要产品包括半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备等，其中清洗设备方面，根据中银证券专题报告的历年累计数据统计显示，公司清洗设备的国内市场占有率为23%，而Gartner2022年数据显示，公司在全球单片清洗设备的市场份额已升至7%。在电镀设备方面，公司的半导体系列电镀设备市场占比位居全球第三、国内第一，拥有良好的品牌声誉。
2022年8月，盛美上海的专利团队注意到至纯科技注册的“”商标与盛美上海“UltraC”等一系列与“Ultra”为主要显著部分的在先商标高度近似。根据相关网站得知，盛美上海的“UltraC”商标自2013年起就长期使用在半导体清洗设备等产品上，在国内半导体行业已具有一定影响力和知名度。同时，盛美上海一直以来都以“Ultra”为其名下产品品牌的系列名，例如UltraC、UltraSFP、UltraSAPS等多种半导体设备。鉴于至纯科技主要经营地也在上海，且经营产品同样包含湿法设备、清洗设备的生产制造，两家企业在经营产品上存在一定程度的重合。为避免相关公众产生误认混淆损害相关公众利益，维护自身品牌声誉及商标权益，盛美上海于是针对至纯科技注册的“
”商标向国家知识产权局提出无效宣告请求并获得支持。