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周智伟|薄膜铌酸锂电光调制器的制造方法

加州大学的研究人员概述了薄膜铌酸锂(TFLN)电光调制器的制造方法。 
由TFLN制成的Mach-Zehnder调制器(MZM)可实现高速电光调制,在上世纪90年代就已经达到了70GHz的调制带宽。近些年,随着TFLN MZM的发展,已经可以在1310nm、1550nm电信波段实现超过100GHZ的调制带宽。目前TFLN MZM主要有4种不同结构,制造过程包括:蚀刻TFLN,在TFLN上沉积其他材料形成肋状波导,与具有预制肋状波导的芯片或晶圆键合。此外还有基于等离子体效应的TFLN MZM器件,以及制造波导的其他方法。4种结构中的前2种可以利用绝缘体上铌酸锂技术制造,第3种一般通过转移法制造,第4种一般在铌酸锂晶圆上沉积制造。虽然TFLN MZM具有较大的应用前景,但目前的制造技术仍存在一定问题,大规模制造的成本较高,能否超过硅光子集成技术尚未可知。
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这项研究概述了TFLN电光调制器的制造方法,指出了主要问题,有助于该技术改进。
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